第85章 研发成功了!
第85章研发成功了!
南江战略研究基地,光电研究实验室。
此时,整个研究基地已经恢复了秩序。
低频脉冲造成的影响确实挺大,不过持续时间也不过半个小时不到。
最主要是苏川在如此短暂的时间中,就取得了研发成果。
这一点狠狠的击中了众人的心脏。
在整个刑天计划中,只有苏川这位总工程师是没有任何的团队以及助理的。
也就是这些科学研究成果都是苏川一个人独立完成。
他们这些带着各自团队进行研发的科学家,别说是获得成果了。
直到现在,甚至连阶段性的进展都没有了。
这让参与刑天计划的这些专家以及科学家如何不敬佩苏川?
很显然,方舟反应炉的诞生,狠狠的激励了所有人。
如果苏川认真的观察系统面板上的研究进度。
那么他就能够看到,机械动力装甲的进度提升速度,比起往日至少增减了50%!
当然,哪怕是如此大幅度的提升,对于整个任务的进度而言,提升依旧缓慢。
光电实验室中,此刻正在对于光刻机的研发,不断的作出尝试。
贺老带着一副老花镜,一直守在机器旁边。
直到机器运作结束,立刻就有人将冷却过后的芯片送到了贺志远的手中。
作为光电研究负责人,光刻机的研发同样是他盯着进行的。
“贺老,您看看!”
此刻的“芯片”还不能够称之为芯片,严格意义上来说,应该称之为晶圆。
这是一种集成电路半导体的原材料!
目前的晶圆也仅仅只是经过了光刻这一个步骤而已。
在此之后还需要进行蚀刻,添加化学离子混合剂,使得光刻、蚀刻后的每个晶体管都能够充足的打开!
经过这些流程过后,晶圆才能够被称之为芯片。
最后在经过测试以及调试,这些芯片就能够正式的投入使用了。
贺志远取下了眼睛,在晶圆上大致的看了一眼。
整体并没有太多的杂质!
接下来的观察,还需要专门的设备进行查验。
毕竟纳米级别的光刻痕迹,别说是肉眼了。
哪怕是一般的显微镜都没有办法看到。
必须要纳米级别的光学显微镜才能够观察到。
这种显微镜的显示倍数至少也是1000倍规模。
只见贺老脚步匆匆,亲自将晶圆放在专门的检验仪器上。
在一旁的电子屏幕上,很快就浮现出,经过放大后,晶圆表面的情况。
一个合格的光刻机,制造出来的晶圆,表面的情况应该与他们光刻模板几乎一致。
同时至少也要保证90%以上的成功率!
“贺老,这一批的晶圆效果怎么样?”
在一旁的光刻操作人员询问道。
实验室中,所有人都在等待着贺老的结果。
贺志远并没有说话,用他手不断拖动着鼠标,观察着晶圆的情况。
毕竟是精确到纳米级别的光刻机!
这一项研究对于他们而言,显然也充满了十足的挑战!
很快,他就皱起眉毛来了。
在无数研究人员的注视下,贺老平静摇了摇头。
只见他转过身来,念出了几个坐标。
“你们注意一下142,64还有7,69这两个坐标。”
“这两个坐标的附近,几乎都有3-4纳米的误差!”
他从仪器中,取出了检验的晶圆平静的说道。
“这么高的误差,表示我们依旧无法生产10纳米以下的芯片!”
“距离目前世界上高精度芯片还有着相当的距离。”
围绕在一旁的研究人员,以及专家无不底下头来。
话虽然是这么说,可对比起他们之前的光刻机技术已经成长了许多了。
尽管成功率不算高,在此之前也已经制造出几片5纳米规格的芯片。
贺老平静的说道。
“另外,我在这里宣布一个好消息,以及一个坏消息。”
贺志远的声音,让众人再度抬起头来。
这种说话语气,可不像是贺老啊。
不过,光电研究团队,还是流露出好奇。
“贺老,您说!”
贺志远点了点头,平静的说道。
“目前,其实我们的曝光系统其实已经基本没有问题。“
“脉冲冷激光经过反射后,完全能够用于光刻。”
他的语气一顿,继续说道。
“先说坏消息。”
“现在的问题在于,光刻机的对准系统出现了问题。”
“在晶圆光刻后,始终会出现一定的偏差!”
贺志远突然流露出一丝微笑。
“至于好消息是,我已经想到了解决这个问题的方法!”
“如果不出意外,目前我们所掌握的光刻技术,至少能够制造出1纳米级别的芯片!”
正当众人准备鼓掌的时候。
贺志远举起了手制止了众人。
“还没成功呢!”
“何况这点成就,与苏总工的冷核聚变来说,根本不足为题。”
“你们快去将光刻机的模具拿过来,还有光刻机对准系统的工作日志打印下来。”
“我现在就要对于光刻机的对准系统,进行改良!”
在贺老的言语之下,实验室里的众人立刻忙碌了起来。
贺志远看着头顶明亮的灯泡,流露出笑容。
其实能够在这么短的时间内,光刻机取得阶段性的进展,还是取决于苏川。
首先是,对于苏川提出脉冲冷激光的想法,直接改变了他的思路。
这段时间,他们一直在研究脉冲冷激光。
在此之前,尝试的极紫外光最多也就保证10纳米到15纳米精度的光刻。
脉冲冷激光则既然相反。
在理论上甚至能够达到1纳米级别,甚至更为精细的光刻!
他们在短时间内,光刻机的核心技术,曝光系统突飞猛进。
反而是对准系统,开始拖后腿了。
不过在今天发生的低频电磁脉冲意外后。
实验室里不断闪烁的灯光,给了贺老灵感。
没错,对准系统的解决方法很简单。
只需要反复关闭启动脉冲冷激光,以闪烁的方式进行光刻,在光刻中因为持续运作所造成的误差,可以大幅度减少。
贺老看着几名工作人员递交过来的对准系统运行日志,以及晶圆模具笑了起来。
一切与他计算的一致!
从另外的一个角度来说。
大夏的高精度光刻机,已经可以提前宣布,研发成功了!
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南江战略研究基地,光电研究实验室。
此时,整个研究基地已经恢复了秩序。
低频脉冲造成的影响确实挺大,不过持续时间也不过半个小时不到。
最主要是苏川在如此短暂的时间中,就取得了研发成果。
这一点狠狠的击中了众人的心脏。
在整个刑天计划中,只有苏川这位总工程师是没有任何的团队以及助理的。
也就是这些科学研究成果都是苏川一个人独立完成。
他们这些带着各自团队进行研发的科学家,别说是获得成果了。
直到现在,甚至连阶段性的进展都没有了。
这让参与刑天计划的这些专家以及科学家如何不敬佩苏川?
很显然,方舟反应炉的诞生,狠狠的激励了所有人。
如果苏川认真的观察系统面板上的研究进度。
那么他就能够看到,机械动力装甲的进度提升速度,比起往日至少增减了50%!
当然,哪怕是如此大幅度的提升,对于整个任务的进度而言,提升依旧缓慢。
光电实验室中,此刻正在对于光刻机的研发,不断的作出尝试。
贺老带着一副老花镜,一直守在机器旁边。
直到机器运作结束,立刻就有人将冷却过后的芯片送到了贺志远的手中。
作为光电研究负责人,光刻机的研发同样是他盯着进行的。
“贺老,您看看!”
此刻的“芯片”还不能够称之为芯片,严格意义上来说,应该称之为晶圆。
这是一种集成电路半导体的原材料!
目前的晶圆也仅仅只是经过了光刻这一个步骤而已。
在此之后还需要进行蚀刻,添加化学离子混合剂,使得光刻、蚀刻后的每个晶体管都能够充足的打开!
经过这些流程过后,晶圆才能够被称之为芯片。
最后在经过测试以及调试,这些芯片就能够正式的投入使用了。
贺志远取下了眼睛,在晶圆上大致的看了一眼。
整体并没有太多的杂质!
接下来的观察,还需要专门的设备进行查验。
毕竟纳米级别的光刻痕迹,别说是肉眼了。
哪怕是一般的显微镜都没有办法看到。
必须要纳米级别的光学显微镜才能够观察到。
这种显微镜的显示倍数至少也是1000倍规模。
只见贺老脚步匆匆,亲自将晶圆放在专门的检验仪器上。
在一旁的电子屏幕上,很快就浮现出,经过放大后,晶圆表面的情况。
一个合格的光刻机,制造出来的晶圆,表面的情况应该与他们光刻模板几乎一致。
同时至少也要保证90%以上的成功率!
“贺老,这一批的晶圆效果怎么样?”
在一旁的光刻操作人员询问道。
实验室中,所有人都在等待着贺老的结果。
贺志远并没有说话,用他手不断拖动着鼠标,观察着晶圆的情况。
毕竟是精确到纳米级别的光刻机!
这一项研究对于他们而言,显然也充满了十足的挑战!
很快,他就皱起眉毛来了。
在无数研究人员的注视下,贺老平静摇了摇头。
只见他转过身来,念出了几个坐标。
“你们注意一下142,64还有7,69这两个坐标。”
“这两个坐标的附近,几乎都有3-4纳米的误差!”
他从仪器中,取出了检验的晶圆平静的说道。
“这么高的误差,表示我们依旧无法生产10纳米以下的芯片!”
“距离目前世界上高精度芯片还有着相当的距离。”
围绕在一旁的研究人员,以及专家无不底下头来。
话虽然是这么说,可对比起他们之前的光刻机技术已经成长了许多了。
尽管成功率不算高,在此之前也已经制造出几片5纳米规格的芯片。
贺老平静的说道。
“另外,我在这里宣布一个好消息,以及一个坏消息。”
贺志远的声音,让众人再度抬起头来。
这种说话语气,可不像是贺老啊。
不过,光电研究团队,还是流露出好奇。
“贺老,您说!”
贺志远点了点头,平静的说道。
“目前,其实我们的曝光系统其实已经基本没有问题。“
“脉冲冷激光经过反射后,完全能够用于光刻。”
他的语气一顿,继续说道。
“先说坏消息。”
“现在的问题在于,光刻机的对准系统出现了问题。”
“在晶圆光刻后,始终会出现一定的偏差!”
贺志远突然流露出一丝微笑。
“至于好消息是,我已经想到了解决这个问题的方法!”
“如果不出意外,目前我们所掌握的光刻技术,至少能够制造出1纳米级别的芯片!”
正当众人准备鼓掌的时候。
贺志远举起了手制止了众人。
“还没成功呢!”
“何况这点成就,与苏总工的冷核聚变来说,根本不足为题。”
“你们快去将光刻机的模具拿过来,还有光刻机对准系统的工作日志打印下来。”
“我现在就要对于光刻机的对准系统,进行改良!”
在贺老的言语之下,实验室里的众人立刻忙碌了起来。
贺志远看着头顶明亮的灯泡,流露出笑容。
其实能够在这么短的时间内,光刻机取得阶段性的进展,还是取决于苏川。
首先是,对于苏川提出脉冲冷激光的想法,直接改变了他的思路。
这段时间,他们一直在研究脉冲冷激光。
在此之前,尝试的极紫外光最多也就保证10纳米到15纳米精度的光刻。
脉冲冷激光则既然相反。
在理论上甚至能够达到1纳米级别,甚至更为精细的光刻!
他们在短时间内,光刻机的核心技术,曝光系统突飞猛进。
反而是对准系统,开始拖后腿了。
不过在今天发生的低频电磁脉冲意外后。
实验室里不断闪烁的灯光,给了贺老灵感。
没错,对准系统的解决方法很简单。
只需要反复关闭启动脉冲冷激光,以闪烁的方式进行光刻,在光刻中因为持续运作所造成的误差,可以大幅度减少。
贺老看着几名工作人员递交过来的对准系统运行日志,以及晶圆模具笑了起来。
一切与他计算的一致!
从另外的一个角度来说。
大夏的高精度光刻机,已经可以提前宣布,研发成功了!
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